技术特色：采用电子束镀膜，利用离子源辅助技术，可实现膜厚精确控制，工艺稳定性极佳，能使膜与基体表面附着力更好，提高膜层的质量与强度，保证膜层致密、可靠； 技术特点：可实现大尺寸、多种形状的高纯度薄膜镀制，均匀性和重复性好，可实现高性能光学薄膜的批量生产； 技术优势：薄膜吸收低，对各类激光晶体、反射腔镜等产品，使用高纯激光级镀膜材料，适合高功率激光器的工作场景； 目前研发多层激光薄膜表面吸收可在2ppm左右 温升测试结果为5℃左右：
依托行业内领先的大功率激光系统镀膜生产经验，最大能够制备直径＞700mm、常规有效镀膜通光口径＞95%（可根据要求满镀），均匀性优于±0.5%的光学薄膜，具有抗激光损伤阈值高，吸收低的薄层特点，满足高功率激光系统发展的需求。
