真空蒸发镀膜设备 品牌:OPTORUN 型号:OTFC1550 功能:OTFC为光驰最畅销的真空蒸发光学镀膜设备,主要被用来生 产中等难度的AR涂层,红外截止滤光片等产品,得益于其出色的腔 体尺寸,可以有效地降低产品生产的成本。 电子束蒸发镀膜设备 品牌:Leybold 型号:Syrus Pro 1950 功能: Syrus Pro 1910 主要用于多波段光学增透膜、高反膜、截止滤光片、 窄带、超窄带、极窄带滤光片等光学薄膜蒸镀,配 备三把电子枪,电阻加热蒸发源和等离子体辅助源, 一次可蒸镀多片不同尺寸的样品,同时,我司的Syrus pro 镀膜伞尺寸 为 1910mm,可以制备大尺寸的光学镀膜产品,同时单炉的产量也远高于市场常见设备,另外在单层镀膜方面,可以将氧化物的厚度均匀性控制在1%。 双离子束溅射镀膜机 品牌:VECCO 型号:SPECTOR HT 功能:SPECTOR HT 镀制的薄膜具有低散射损耗,高薄膜纯度。可控薄膜厚度低于0.1 纳米。使用SPECTOR可以生产AR涂层、复杂非四分之一波长涂层和超低吸收损耗和散射的激光器反射镜等光学元件。所制薄膜优点:堆积密度良好、针孔密度较低、薄 膜纯度较高。 我们主要利用SPRCTOR HT 来生产超窄带滤光片,和应用于航天,军工,医疗,仪器等对滤光片精度具有极高要求的市场。 离子束溅射镀膜设备 品牌:Leybold 型号:IBS 功能: IBS 系列提供具有超低光学镀膜损耗的离子束溅射技术,非常适合用于激光光学装置、陀螺仪、计量学、显微镜学、电信和其他要求苛刻应用的高精度镀膜。 半导体磁控溅射镀膜设备 品牌:北方华创-NAURA 型号:Polaris B630 功能: Polaris系列PVD系统主要由大气平台,真空传输平台,去气腔室(Degas),预清洁腔室和工艺腔室组成,设备采用Cluster Tool结构,可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室,适合封装领域薄膜制备大规模生产。Polaris系列PVD为全自动大产能设备,具有反应腔自动开闭盖、晶圆自动传输、工艺去气、晶圆表面预清洁、薄膜沉积完全自动化等特点。 原子层沉积镀膜设备 品牌:Beneq 型号:TFS-500 功能:TFS 500可处理多种类型的基板;芯片、平面物体、颗粒和多孔体材料,以及具有高纵横比特征的复杂3D物体。它还可以配备手动操作的装载锁,以提高芯片处理能力。不同类型的反应室可以很容易地安装在真空室内,从而可以针对每个客户应用优化每个反应室。 光学磁控溅射镀膜设备 品牌:Leybold 型号:Helios 800 功能:HELIOS 800 溅射镀膜机专为满足薄膜制备的高要求而设计。适用于线性激光、深度截止滤光片和陷波滤光片、激光器和啁啾镜、偏振片、分束器、生物传感器和 ADAS 传感器或消费电子产品。主要应用于生物医疗,仪器设备,3D传感等市场。与软件,计算机等行业不同,半导体和光学镀膜行业依赖的不仅仅是复杂的膜系设计,更多的是依赖能够实现膜系设计的高精度的镀膜设备,Auxcera结合其深厚的膜系设计能力,工艺控制,以及在世界顶尖的高精度镀膜设备的支持下,为客户提供高精度的,满足客户需求的可靠的镀膜产品。