中国领先的定制化镀膜产品制造企业

上海陶藤电子科技有限公司

Auxcera(上海陶藤电子科技有限公司)创建于2022年,公司位于上海市宝山区,在中山,深圳设有研发中心,占地1000平方米,现有员工50余人。
公司创始团队来自国内顶尖高校,科研院所及海外知名镀膜企业,其中光学薄膜博士2名,我们专注于 半导体和光学薄膜工艺的开发,依托多类型先进的镀膜设备(Vecco Spectra/离子束溅射镀膜,北方华创 B630/真空蒸发镀膜,Ulvac/连续式磁控溅射镀膜,Optorun OWLS磁控溅射镀膜,Beneq/原子层沉积),先 进的检测设备(SEM,AFM,四探针,椭偏仪,Agilent Cary 7000,Zygo MST干涉仪),我们为半导体,消 费电子,AR/VR,仪器,激光雷达等领域提供可靠的,性能卓越的镀膜服务

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技术创新

紫外波段镀膜(紫外波段)

紫外波段目前被主要应用于半导体行业,Auxcer(上海陶藤电子科技有限公司)紧跟国家半导体行业发展,基于公司创始团队在研究所及外企工作时的技术积累,我们可以为客户提供193nm(R>97.5%),254nm,355nm的紫外诱导滤光片,紫外增透膜,紫外反射镜等产品,同时上海陶藤从未停止创新的止步,2024年上海陶藤开发出基于Mo/Si的13.5nm平面反射镜产品。

超窄带滤光片​(可见光或近红外波段)

超窄带滤光片目前被主要应用于窄线宽激光器和一些光谱分析检测产品上,Auxcera(上海陶藤电子科技有限公司)在超窄带光学镀膜滤光片产品的研发上有悠久的历史,基于我们先进的技术,成熟的经验,以及kk可以实现超精密镀膜的离子束溅射镀膜设备,我们在1550nm 1064nm波段大批量量产带宽 1mm 0.4nm 0.3nm的产品。

半导体金属或氧化物薄膜沉积(单层金属膜或氧化物)

我们拥有半导体金属膜层镀膜平台,基于先进的镀膜设备及工艺,我们可以采用磁控溅射镀膜方式,在2-12寸的金刚石,碳化硅,蓝宝石,玻璃,硅等晶圆以及陶瓷上沉积金,银,铜,铝,钛,镍,铬,铂等多种金属膜层的制备。

高能激光薄膜(可见光和近红外波段)

我们拥有多尺寸高功率低吸收激光薄膜研制平台,实现了高性能高损伤阈值复杂激光薄膜的制备能力,依托行业内领先的大功率激光系统镀膜生产经验,最大能够制备直径可达500mm、常规有效镀膜通光口径>95%(可根据要求满镀),均匀性优于±0.5%的光学薄膜,具有抗激光损伤阈值高,膜层吸收低,耐环境特性好的薄层特点, 目前多膜层激光薄膜表面吸收可达2ppm,温升为5℃左右,满足相关大功率激光系统发展的薄膜需求。

医疗仪器类滤光片(可见光波段)

我们拥有仪器及生物医疗用高难度滤光片研制平台,实现了高OD值长短波通滤光片,超陡滤光片,超窄带滤光片,多通道窄带滤光片及多通道二向色滤光片的研制,为国内医疗器械行业的发展提供支持。

激光晶体镀膜(晶体镀膜)

使用高纯金属Hf和高纯SiO2做为镀膜材料,所制备的薄膜的吸收<2.7ppm,0°激光薄膜反射率测试R>99.97%,透过率T>99.8%,适合高功率激光器等稳定性要求高的光学器件。我们针对多种晶体均有成熟的镀膜经验,比如:Nd YAG,Yb YAG(碟式激光器)等。

全面的镀膜技术

薄膜沉积方式 镀膜波段
● 真空蒸发镀膜技术 ● 193nm-12um
● 磁控溅射镀膜技术
● 离子束溅射镀膜技术
● 原子层沉积镀膜技术(ALD)
● 等离子增强化学气相沉积技术(PECVD)
● 低压化学气相沉积技术(LPCVD)

先进的检测设备和镀膜设备

镀膜设备
● Vecco Spector ● Optorun OTFC 1550*10 units
● Leybold Heliso 1200 ● Optorun ALDER 1100
● Leybold Syrus Pro ● Denton 635
● Optorun Spoc ● Intlvac
检测设备
● Aglient Cary 7000 ● ZYGO MST 12
● Semilab SE2000 ● Bruker GTK
● Dimension EDGE ● Bruker UMT TriboLab
可沉积材料
金属材料:Au/Ag/Cu/Al/Cr/Ti/Ni/Pt/Mo/Al
非金属材料:
Sio2/ITO/TiO2/HfO2/ZrO2/Ta2O3/ZnO/Ga2O3/NIO/CeO/Al2O3/ZnO/Ta2O5/Ti3O5/MgF2/SiN/Alpha-Si/AlN/MgO/TiN /AlN